美光解散150人上海内存设计团队
美光解散150人上海内存设计团队，美光科技正在解散150人左右规模的上海研发中心，并挑选40多位核心研发人员提供技术移民美国的资格。美光解散150人上海内存设计团队。
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据《集微网》25日报道，业内消息指出，美光科技正解散上海研发中心一个150人左右规模的团队，并挑选了40多名核心研发人员，提供技术移民美国的资格。美光26日证实正进行人事调整，但未提及原因，强调人事调整只针对上海研发中心的DRAM设计部门，其他团队不会受到影响。
《集微网》在报道中指出，经过向多名美光在职员工求证之后获悉，美光此次并非解散整个上海研发中心，而是只解散了DRAM设计部门，该部门总人数超过100人。
报道提到，上海研发中心的括销售、测试等多个部门并没有受到影响，同时，美光目前在西安的工厂也无任何异动。
美光的员工透露，上海的DRAM设计团队的解散将于今年内完成，公司提供技术移民美国资格的消息属实，部分核心员工将可以携带家属一同移民至美国，目前仍无法确定有多少员工会选择移民。
一名半导体业内高管认为，美光解散DRAM设计团队很有可能是出于防止技术外泄的考虑，虽然目前中国大陆的`DRAM企业数量相对较少，但未来几年内或有可能涌现出新的几家DRAM制造商，而且现有的DRAM企业也正求贤若渴，美光此举或是想将产品的设计和研发收拢至中国大陆以外地区。
美光26日证实正进行人事调整，但未提及背后原因，强调人事调整只针对上海研发中心的DRAM设计部门，其他团队的成员不会受到影响，预计相关过渡工作会在今年12 月前完成。
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近日业内传出消息称，美光科技正在解散150人左右规模的上海研发中心，并挑选40多位核心研发人员提供技术移民美国的资格。
有业界人士分析称，美光解散DRAM设计团队很有可能是出于防止技术外泄的考虑，并将产品的设计和研发收拢至大陆以外的地区。
对此，美光 回应，这次人事调整仅针对该设计中心的 DRAM 设计部门，约有百余名员工受到影响。
报导指出，多位美光前员工与在职员工表示，美光此次并非解散整个上海研发中心，仅仅解散DRAM设计部门，该部门总人数超过100人。
通过美光员工证实，上海DRAM设计团队将在今年内完成解散，公司提供技术移民美国资格的消息属实，部分核心员工将可携带家属一同移民美国，但目前无法确定有多少员工会选择移民。
一名美光前员工透露：“美光的DRAM设计团队此前有一大波人员流失至国内的本土IC设计公司和存储大厂。”
因此，有半导体行业内人士分析，美光解散DRAM设计团队很有可能是出于防止技术外泄的考虑，虽然目前国内的DRAM企业数量相对较少，但未来几年有可能涌现出新的几家DRAM制造商，且现有DRAM企业也正求才若渴，美光此举或是想将产品的设计和研发收拢至中国大陆以外地区。加上美光十分重视知识产权保护，因此有可能提前进行部署。
值得一提的是，此前美光就曾以专利侵权及窃取商业机密为由起诉了联电和福建晋华。
2016 年5 月，联电与福建晋华签署了合作协议。依据该协议，联电与晋华共同开发两代动态随机存取记忆体（DRAM） 制程。协议中所开发的DRAM 制程并非最新技术，而是与2012 年已用于量产技术相似的旧技术。
然而，有3 位参与DRAM 合作案的台湾美光前员工，却违反与联电签订的雇佣合约与声明书，携带前公司信息进入联电并于工作中参考，又将机密资料转移给晋华，美光因此在台湾起诉联电，同年又在美国对联电、晋华提起诉讼，随后美国司法部开始调查。
2020年10 月28 日，联电对窃取美光商业机密一案认罪，遭美国司法部处以6，000 万美元罚金。
联电当时指出，在与美国司法部的和解协议中，美国司法部同意撤销对联电原来包括共谋实施经济间谍活动、共谋窃取多项美光营业秘密和专利有关等指控。联电承认侵害一项营业秘密，同意支付美国政府6，000 万美元的罚金，并在3 年自主管理的缓刑期间内与美国司法部合作。
2021年11月，联电和美光宣布达成全球和解协议，双方将各自撤回向对方提出的诉讼，同时联电将向美光一次支付金额保密的和解金，双方将共创商业合作机会。
美光科技表示，其为创新记忆体和储存空间解决方案的业界领导者，拥有超过40 年技术引领与创新经验及总数超过47，000 件的全球专利，积极大幅投资于先进研发及制造。该公司持续推动对于数据经济至关重要的各项创新，对于智慧财产权的保护则是公司保持竞争力的重要基石。
市场调研公司Counterpoint的报告显示，目前在全球市占率中，三星（41.5%）与SK海力士（29.3%）、美光（23.4%）便掌握全球九成份额。反观国内DRAM企业相对少，目前国内专注于DRAM存储芯片的合肥长鑫虽然已有所突破，但与国际大厂仍有很大差距。
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集微网消息，1月25日，业内有消息指出，美光科技正在解散150人左右规模的上海研发中心，并挑选了40多位核心研发人员提供移民技术美国的资格。
针对上述消息，集微网在向多位美光前员工与在职员工求证后获悉，美光此次并非解散整个上海研发中心，而是仅仅解散了DRAM设计部门，该部门总人数超过100人。除了该团队，美光上海研发中心还包括销售、测试等多个部门。另外，美光目前在西安的工厂也不会发生其他异动，该厂主要开展集成电路装配与测试以及DRAM模块制造。
美光员工告诉集微网，上海的DRAM设计团队的解散将于今年内完成，公司提供技术移民美国资格的消息属实，部分核心员工将可以携带家属一同移民至美国，目前仍无法确定有多少员工会选择移民。
据一位前美光员工透露，美光的DRAM设计团队此前有一大波人员流失至国内的本土IC设计公司和存储大厂。
某半导体行业高管评论称，美光解散DRAM设计团队很有可能是出于防止技术外泄的考虑，虽然目前国内的DRAM企业数量相对较少，但未来几年内或有可能涌现出新的几家DRAM制造商，而且现有的DRAM企业也正求贤若渴，美光此举或是想将产品的设计和研发收拢至中国大陆以外地区。
该行业高管还指出，美光对知识产权保护的重视程度由来已久，此前美光就曾因商业机密泄露将联电告上法庭。不过在2021年11月26日，美光与联电共同宣布达成全球和解协议，将各自撤回向对方提出的诉讼，联电将向美光一次支付金额保密的和解金，双方在声明中均称，期待未来达成共同的商业合作机会。
美光在该知识产权诉讼结束时就曾强调，知识产权保护是美光赖以保持竞争力的重要基石。
市场调研公司Counterpoint报告显示，三星以41.5%的市场份额居市场首位，SK 海力士市占率29.3%排第二，美光则为23.4%居第三，前三大厂合计攻占DRAM市场94.2%。
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